東京大学連携研究機構マテリアルイノベーション研究センター(MIRC) 第4回セミナー 東京大学ナノシステム集積センター(NanoHub) ワークショップ 化学工学会CVD反応分科会... powered by Peatix : More than a ticket.
イベント詳細 東京大学連携研究機構マテリアルイノベーション研究センター(MIRC) 第4回セミナー
東京大学ナノシステム集積センター(NanoHub) ワークショップ
化学工学会CVD反応分科会 第12回講演会
下記の通り開催いたします。奮ってご参加ください。
記
日時： 2026年5月28日（木）15：00-17：00 （講演1時間程度＋質疑が終わるまで）
場所： 東京大学本郷キャンパス工学部4号館1階205セミナー室 および オンライン併用
講師： 東京大学 長汐晃輔氏
題目： 2次元材料のウエハスケール集積回路技術の基盤構築に向けて ～ロジック半導体が作られる日はくるのか？～
要旨： MoS2に代表される2次元材料をチャネルとした3次元ナノシート構造が2022年のIEDMでTSMCにより発表されて以来、2次元材料もPMOSナノシート上にNMOSナノシートを3次元配置する「CFET」構造による集積化の研究が進んでいる。本講演では、MOCVDにより2インチサファイア基板上に製膜した単層MoS2を用いて、ウエハスケールでデバイス特性を評価して来た結果を紹介する。
参加費：無料
申込方法：以下のURLにアクセスし、右の「チケット申し込む」ボタンよりお申込みください。（peatix.comドメインからのメールを受信可能としてください。）※「会場参加」「オンライン参加」どちらかひとつにお申込みお願いします。（両方は申し込まないでください。）
https://cvd12lecture.peatix.com/
※アクセスできない場合には、（１）氏名、（２）所属、（３）連絡先e-mail、（４）参加形態（会場参加、オンライン参加）を明記のうえ、cvd@scej.orgまでメールにてお申込みください。
申込締切：5月26日（火）正午 厳守 （締切後のお申し込みは一切できません。）
会場参加 20名、オンライン参加 300名の定員に達し次第、申込受付を終了いたします。
問合せ先：CVD反応分科会事務局 e-mail: cvd@scej.org
注意事項：・参加者による録画・録音は一切禁止とします。
・オンライン参加へのURLは、講演会前日までに参加申込者にメールにてお送りします。 続きを読...
プラットフォーム: peatix / 主催者: CVD反応分科会
